前道涂胶显影市场迎重（清理污水池公司）

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盛美上海(.SH)再次向市场展示了其强大的研发实力。 月日，盛美上

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海在科创板上市一周年这个特殊的日子里，推出了里程碑式的新产品：前道涂胶显影Track设

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备Ultra LITH，这标志着盛美上海正式进入了半导体前道涂胶显影领域。 自年上市以来，

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仅一年的时间内，盛美上海便陆续发布了7款新产品，涉及了半导体及新型化合物半导体制造工艺的电镀、

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清洗、薄膜沉积等多个环节，而此次的涂胶显影Track设备，已是年内的第8款新品。 更为关键的是，此次前道涂胶显影Track设备的推出，无论是对光刻产业亦或是对盛美上海自身而言，都具有重大意义。 从光刻产业来看，涂胶显影在前道晶圆制造的光刻环节中发挥着重要作用，是光刻机的输入和输出端，与光刻机配合工作，在曝光前进行光刻涂胶覆盖，在曝光后进行图形的显影。据Gartner数据显示，年，全球的涂胶显影设备市场规模将达亿美元，据此推算，中国市场规模已达亿人民币。 但整个市场呈现出一家独大的局面。目前，业内厂商主要有东京电子(TEL)、日本迪恩士(DNS)、德国苏斯微(SUSS)、台湾亿力鑫(ELS)和国内的芯源微。其中，仅东京电子一家便占据了全球%和中国%的涂胶显影设备市场份额，下游制造商迫切希望能有更多的选择。 特别是在国内市场，半导体设备国产替代已是大势所趋，但国内涂胶显影设备市场制造商稀少，国产化率不足5%，涂胶显影设备的国产替代情势严峻。而盛美上海最新推出的Ultra LITH设备可谓是恰逢其时。 从盛美上海自身的发展来看，涂胶显影Track设备是公司继半导体清洗设备、半导体电镀设备、先进封装湿法设备、立式炉管设备四大产品系列外的又一新产品系列。在五大系列产品的支持下，盛美上海已然成为国内平台级的半导体设备制造商。 这对于以单一的清洗设备起家的盛美上海而言，无疑是巨大的突破。盛美上海表示，公司将 　　

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